Сейчас 127 заметки.

Процесс изготовления полупроводниковых КМОП микросхем: различия между версиями

Материал из ЗАметки
(Новая страница: «2 Технологический часть 2.1 Технологический маршрут Процесс изготовления полупроводник...»)
 
Строка 1: Строка 1:
2 Технологический часть
+
''Процесс изготовления полупроводниковых КМОП микросхем включает в себя следующие операции'':
 
 
2.1 Технологический маршрут
 
 
 
Процесс изготовления полупроводниковых КМОП микросхем включает в себя следующие операции:
 
1) Окисление.  Используется для создания маски под карман p-типа.
 
  
 +
'''Окисление'''. 
 +
Используется для создания маски под карман p-типа.
  
 +
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 +
* электропечь СДО-125/3;
 +
* муфель;
 +
* сухой кислород;
 +
* кварцевая кассета-лодочка;
 +
* азот;
 +
* кварцевый толкатель;
 +
'''Фотолитография'''. Используется для вскрытия окон в окисле под диффузию примеси p-типа.
  
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
а) электропечь СДО-125/3;
 
б) муфель;
 
в) сухой кислород;
 
г) кварцевая кассета-лодочка;
 
д) азот;
 
е) кварцевый толкатель;
 
2) Фотолитография. Используется для вскрытия окон в окисле под диффузию примеси p-типа.
 
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) фоторезист позитивный;
+
* фоторезист позитивный;
б) фотошаблон;
+
* фотошаблон;
в) центрифуга;
+
* центрифуга;
г) термостат;
+
* термостат;
д) автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
+
* автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
е) проявитель;
+
* проявитель;
3) Диффузия. Используется для внедрения бора во вскрытую область до концентрацией 1016 см-3.
+
'''Диффузия'''. Используется для внедрения бора во вскрытую область до концентрацией 1016 см-3.
  
 
 
    
 
    
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) бор трехбромистый;
+
* бор трехбромистый;
в) муфель;
+
* муфель;
г) азот
+
* азот
д) кислород
+
* кислород
е) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
ж) кварцевый толкатель;
+
* кварцевый толкатель;
4) Окисление. Используется для создания маски стоковых и истоковых областей p-канальных транзисторов.
+
'''Окисление'''. Используется для создания маски стоковых и истоковых областей p-канальных транзисторов.
  
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) муфель;
+
* муфель;
в) сухой кислород;
+
* сухой кислород;
г) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
д) азот;
+
* азот;
е) кварцевый толкатель;                   
+
* кварцевый толкатель;                   
5) Фотолитография. Используется для вскрытия окон под области стоков и истоков p-канальных транзисторов.
+
'''Фотолитография'''. Используется для вскрытия окон под области стоков и истоков p-канальных транзисторов.
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) фоторезист позитивный;
+
* фоторезист позитивный;
б) фотошаблон;
+
* фотошаблон;
в) центрифуга;
+
* центрифуга;
г) термостат;
+
* термостат;
д) автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
+
* автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
е) проявитель;
+
* проявитель;
6) Диффузия. Используется для внедрение бора во вскрытые области до концентрации 1018 см-3.
+
'''Диффузия'''. Используется для внедрение бора во вскрытые области до концентрации 1018 см-3.
  
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) бор трехбромистый;
+
* бор трехбромистый;
в) муфель;
+
* муфель;
г) азот
+
* азот
д) кислород
+
* кислород
е) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
ж) кварцевый толкатель;
+
* кварцевый толкатель;
7) Окисление. Используется для создания маски стоковых и истоковых областей n-канальных транзисторов.
+
'''Окисление'''. Используется для создания маски стоковых и истоковых областей n-канальных транзисторов.
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) муфель;
+
* муфель;
в) сухой кислород;
+
* сухой кислород;
г) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
д) азот;
+
* азот;
е) кварцевый толкатель;                                                       
+
* кварцевый толкатель;                                                       
8) Фотолитография. Используется для вскрытия окон под области истоков и стоков n-канальных транзисторов.
+
'''Фотолитография'''. Используется для вскрытия окон под области истоков и стоков n-канальных транзисторов.
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) фоторезист позитивный;
+
* фоторезист позитивный;
б) фотошаблон;
+
* фотошаблон;
в) центрифуга;
+
* центрифуга;
г) термостат;
+
* термостат;
д) автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
+
* автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
е) проявитель;
+
* проявитель;
9) Диффузия. Используется для внедрения фосфора во вскрытые области до концентрации 1018 см-3.
+
'''Диффузия'''. Используется для внедрения фосфора во вскрытые области до концентрации 1018 см-3.
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) фосфор трехбромистый;
+
* фосфор трехбромистый;
в) муфель;
+
* муфель;
г) азот
+
* азот
д) кислород
+
* кислород
е) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
ж) кварцевый толкатель;
+
* кварцевый толкатель;
10) Окисление. Используется для создания маски под область затвора.
+
'''Окисление'''. Используется для создания маски под область затвора.
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) муфель;
+
* муфель;
в) сухой кислород;
+
* сухой кислород;
г) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
д) азот;
+
* азот;
е) кварцевый толкатель;                  
+
* кварцевый толкатель;              
11) Фотолитография. Используется для вскрытия окон под область затвора.
+
'''Фотолитография'''. Используется для вскрытия окон под область затвора.
  
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) фоторезист позитивный;
+
* фоторезист позитивный;
б) фотошаблон;
+
* фотошаблон;
в) центрифуга;
+
* центрифуга;
г) термостат;
+
* термостат;
д) автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
+
* автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
е) проявитель;
+
* проявитель;
12) Окисление. Используется для наращивания тонкого подзатворного оксида.
+
'''Окисление'''. Используется для наращивания тонкого подзатворного оксида.
  
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) электропечь СДО-125/3;
+
* электропечь СДО-125/3;
б) муфель;
+
* муфель;
в) сухой кислород;
+
* сухой кислород;
г) кварцевая кассета-лодочка;
+
* кварцевая кассета-лодочка;
д) азот;
+
* азот;
е) кварцевый толкатель;                   
+
* кварцевый толкатель;                   
13) Фотолитография. Используется для вскрытия окон под истоки и стоки.
+
'''Фотолитография'''. Используется для вскрытия окон под истоки и стоки.
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) фоторезист позитивный;
+
* фоторезист позитивный;
б) фотошаблон;
+
* фотошаблон;
в) центрифуга;
+
* центрифуга;
г) термостат;
+
* термостат;
д) автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
+
* автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
е) проявитель;
+
* проявитель;
14) Напыление. Используется для напыления пленки алюминия.
+
'''Напыление'''. Используется для напыления пленки алюминия.
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) установка вакуумного напыления Оратория-29
+
* установка вакуумного напыления Оратория-29
б) алюминий
+
* алюминий
в) подложкодержатели
+
* подложкодержатели
15) Фотолитография. Используется для создания рисунка разводки.
+
'''Фотолитография'''. Используется для создания рисунка разводки.
  
  
  
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
 
Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:
а) фоторезист позитивный;
+
* фоторезист позитивный;
б) фотошаблон;
+
* фотошаблон;
в) центрифуга;
+
* центрифуга;
г) термостат;
+
* термостат;
д) автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
+
* автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
е) проявитель;
+
* проявитель;
16) Контроль пластин по электрическим параметрам.
+
* Контроль пластин по электрическим параметрам.
17) Разделение пластин на кристаллы.
+
* Разделение пластин на кристаллы.
18) Монтаж кристалла на выводную рамку.
+
* Монтаж кристалла на выводную рамку.
19) Разварка выводов термокомпрессионной сваркой.
+
* Разварка выводов термокомпрессионной сваркой.
20) Герметизация литьевым прессованием.
+
* Герметизация литьевым прессованием.
21) Маркировка.
+
* Маркировка.
22) Упаковка.
+
* Упаковка.

Версия 20:14, 23 апреля 2013

Процесс изготовления полупроводниковых КМОП микросхем включает в себя следующие операции:

Окисление. Используется для создания маски под карман p-типа.

Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • муфель;
  • сухой кислород;
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • азот;
  • кварцевый толкатель;

Фотолитография. Используется для вскрытия окон в окисле под диффузию примеси p-типа.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • фоторезист позитивный;
  • фотошаблон;
  • центрифуга;
  • термостат;
  • автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
  • проявитель;

Диффузия. Используется для внедрения бора во вскрытую область до концентрацией 1016 см-3.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • бор трехбромистый;
  • муфель;
  • азот
  • кислород
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • кварцевый толкатель;

Окисление. Используется для создания маски стоковых и истоковых областей p-канальных транзисторов.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • муфель;
  • сухой кислород;
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • азот;
  • кварцевый толкатель;

Фотолитография. Используется для вскрытия окон под области стоков и истоков p-канальных транзисторов.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • фоторезист позитивный;
  • фотошаблон;
  • центрифуга;
  • термостат;
  • автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
  • проявитель;

Диффузия. Используется для внедрение бора во вскрытые области до концентрации 1018 см-3.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • бор трехбромистый;
  • муфель;
  • азот
  • кислород
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • кварцевый толкатель;

Окисление. Используется для создания маски стоковых и истоковых областей n-канальных транзисторов.

Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • муфель;
  • сухой кислород;
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • азот;
  • кварцевый толкатель;

Фотолитография. Используется для вскрытия окон под области истоков и стоков n-канальных транзисторов.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • фоторезист позитивный;
  • фотошаблон;
  • центрифуга;
  • термостат;
  • автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
  • проявитель;

Диффузия. Используется для внедрения фосфора во вскрытые области до концентрации 1018 см-3.

Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • фосфор трехбромистый;
  • муфель;
  • азот
  • кислород
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • кварцевый толкатель;

Окисление. Используется для создания маски под область затвора.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • муфель;
  • сухой кислород;
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • азот;
  • кварцевый толкатель;

Фотолитография. Используется для вскрытия окон под область затвора.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • фоторезист позитивный;
  • фотошаблон;
  • центрифуга;
  • термостат;
  • автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
  • проявитель;

Окисление. Используется для наращивания тонкого подзатворного оксида.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • электропечь СДО-125/3;
  • муфель;
  • сухой кислород;
  • кварцевая кассета-лодочка;
  • азот;
  • кварцевый толкатель;

Фотолитография. Используется для вскрытия окон под истоки и стоки.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • фоторезист позитивный;
  • фотошаблон;
  • центрифуга;
  • термостат;
  • автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
  • проявитель;

Напыление. Используется для напыления пленки алюминия.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • установка вакуумного напыления Оратория-29
  • алюминий
  • подложкодержатели

Фотолитография. Используется для создания рисунка разводки.


Оборудование, инструмент, оснастка, материалы:

  • фоторезист позитивный;
  • фотошаблон;
  • центрифуга;
  • термостат;
  • автоматическая установка проекционного помодульного экспонирования ЭМ-584;
  • проявитель;
  • Контроль пластин по электрическим параметрам.
  • Разделение пластин на кристаллы.
  • Монтаж кристалла на выводную рамку.
  • Разварка выводов термокомпрессионной сваркой.
  • Герметизация литьевым прессованием.
  • Маркировка.
  • Упаковка.